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    X‐Ray Multibeam Ptychography at up to 20 keV: Nano‐Lithography Enhances X‐Ray Nano‐Imaging Autoría: Tang Li, Maik Kahnt, Thomas L. Sheppard, Runqing Yang, Ken V. Falch, Roman Zvagelsky, Pablo Villanueva‐Perez, Martin Wegener, Mikhail Lyubomirskiy

    Publicado 2024
    Fuente: Wiley Open Access
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    X‐Ray Multibeam Ptychography at up to 20 keV: Nano‐Lithography Enhances X‐Ray Nano‐Imaging (Adv. Sci. 30/2024) Autoría: Tang Li, Maik Kahnt, Thomas L. Sheppard, Runqing Yang, Ken V. Falch, Roman Zvagelsky, Pablo Villanueva‐Perez, Martin Wegener, Mikhail Lyubomirskiy

    Publicado 2024
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