Rippled area formed by surface plasmon polaritons upon femtosecond laser double-pulse irradiation of silicon: the role of carrier generation and relaxation processes

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
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Hauptverfasser: Derrien, Thibault J. -Y., Krüger, Jörg, Itina, Tatiana E., Höhm, Sandra, Rosenfeld, Arkadi, Bonse, Jörn
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2013
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