Design and Comparative Analysis of a Two-Stage Ultra-Low-Power Subthreshold Operational Amplifier in 180nm, 90nm, and 45nm technology

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
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Hauptverfasser: Nitundil, Sumukh, Singh, Nihal, Balaji, Rushabha, Arora, Pankaj
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2020
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