Design and Comparative Analysis of a Two-Stage Ultra-Low-Power Subthreshold Operational Amplifier in 180nm, 90nm, and 45nm technology
Fuente:
arXiv
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Preprint |
| Veröffentlicht: |
2020
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| Schlagworte: | |
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