Coherent epitaxy of trilayer nickelate (Nd0.8Sr0.2)4Ni3O10 films by high-pressure magnetron sputtering
Fuente:
arXiv
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | Bi, Jiachang, Pei, Yujuan, Zhang, Ruyi, Peng, Shaoqin, Wang, Xinming, Sun, Jie, Feng, Jiagui, Yang, Jingkai, Cao, Yanwei |
|---|---|
| Format: | Preprint |
| Veröffentlicht: |
2021
|
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Ähnliche Einträge
One-step epitaxy of high-mobility La-doped BaSnO3 films by high-pressure magnetron sputtering
von: Zhang, Ruyi, et al.
Veröffentlicht: (2021)
von: Zhang, Ruyi, et al.
Veröffentlicht: (2021)
Epitaxial Sr-doped nickelate perovskite thin films and Ruddlesden-Popper phases grown by magnetron sputtering
von: Kim, Changhwan, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Kim, Changhwan, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Structural and electrical properties of fiber textured and epitaxial molybdenum thin films prepared by magnetron sputter epitaxy
von: Sundarapandian, Balasubramanian, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Sundarapandian, Balasubramanian, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Magnetic properties and I‐V characteristics of DC magnetron sputtered [Co (0.2 nm)/Ni (0.4 nm)]10 thin films
von: Subrata Sarkar, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Subrata Sarkar, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Hydrogenation-induced gigantic resistance decrease of palladium films deposited by high pressure magnetron sputtering
von: Ikeda, Yusuke, et al.
Veröffentlicht: (2026)
von: Ikeda, Yusuke, et al.
Veröffentlicht: (2026)
The Rise of Refractory Transition‐Metal Nitride Films for Advanced Electronics and Plasmonics
von: Jiachang Bi, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Jiachang Bi, et al.
Veröffentlicht: (2025)
The Rise of Refractory Transition-Metal Nitride Films for Advanced Electronics and Plasmonics
von: Bi, Jiachang, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Bi, Jiachang, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Superconductivity in trilayer nickelate La4Ni3O10 under pressure
von: Zhang, Mingxin, et al.
Veröffentlicht: (2023)
von: Zhang, Mingxin, et al.
Veröffentlicht: (2023)
Isotropic superconductivity in pressurized trilayer nickelate La4Ni3O10
von: Peng, Di, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Peng, Di, et al.
Veröffentlicht: (2025)
High-quality superconducting α-Ta film sputtered on heated silicon substrate
von: Wu, Yanfu, et al.
Veröffentlicht: (2023)
von: Wu, Yanfu, et al.
Veröffentlicht: (2023)
High-temperature superconductivity in Nd$_{0.85}$Sr$_{0.15}$NiO$_2$ membranes under pressure
von: Lee, Yonghun, et al.
Veröffentlicht: (2026)
von: Lee, Yonghun, et al.
Veröffentlicht: (2026)
Characterization of ALN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering
von: M. García-Méndez
Veröffentlicht: (2008)
von: M. García-Méndez
Veröffentlicht: (2008)
Synthesis, characterization, and electrical properties of Nd 3+ ‐doped (Bi 0.4 Na 0.2 K 0.2 Ba 0.2 )TiO 3 high‐entropy ceramics
von: Qiang He, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Qiang He, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Bulk superconductivity in pressurized trilayer nickelate Pr4Ni3O10 single crystals
von: Zhang, Enkang, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Zhang, Enkang, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Effect of annealing in the formation of well crystallized and textured SrFe$_{12}$O$_{19}$ films grown by RF magnetron sputtering
von: Soria, G. D., et al.
Veröffentlicht: (2022)
von: Soria, G. D., et al.
Veröffentlicht: (2022)
Phase selection and texturing in molybdenum oxide films grown by reactive magnetron sputtering
von: Lahiji, Faezeh A. F., et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Lahiji, Faezeh A. F., et al.
Veröffentlicht: (2025)
Post-deposit annealing of ITO films produced by r.f. magnetron sputtering
von: M. Cruz-Jáuregui
Veröffentlicht: (1997)
von: M. Cruz-Jáuregui
Veröffentlicht: (1997)
Preparation of reactive magnetron sputtered SiC films by RF-RMS technique
von: E. Andrade
Veröffentlicht: (1999)
von: E. Andrade
Veröffentlicht: (1999)
Transparent conducting zinc-co-doped ITO films prepared by magnetron sputtering
von: Tadatsugu Minami
Veröffentlicht: (1999)
von: Tadatsugu Minami
Veröffentlicht: (1999)
Tribology of ZRN, CRN and TIALN thin films deposited by reactive magnetron sputtering
von: Alexander Ruden
Veröffentlicht: (2013)
von: Alexander Ruden
Veröffentlicht: (2013)
Unveiling pressurized bulk superconductivity in a trilayer nickelate Pr4Ni3O10 single crystal
von: Pei, Cuiying, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Pei, Cuiying, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Realization of high transparent mobility zinc‐doped indium oxide (IZO) thin films by RF‐magnetron sputtering
von: Bingxue Han, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Bingxue Han, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Tracing the horizon of tetragonal-to-monoclinic distortion in pressurized trilayer nickelate La4Ni3O10
von: Ramakrishnan, Sitaram, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Ramakrishnan, Sitaram, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Structural and morphological behavior of bismuth thin films grown through DC-magnetron sputtering
von: Claudia Milena Bedoya-Hincapié
Veröffentlicht: (2015)
von: Claudia Milena Bedoya-Hincapié
Veröffentlicht: (2015)
Characterization of nanostructured SnO2 films deposited by reactive DC-magnetron sputtering
von: M. A. Camacho-López
Veröffentlicht: (2013)
von: M. A. Camacho-López
Veröffentlicht: (2013)
Optical and structural characterization of TiOx Ny films deposited by reactive magnetron sputtering
von: E. Hernández-Rodríguez
Veröffentlicht: (2009)
von: E. Hernández-Rodríguez
Veröffentlicht: (2009)
Room Temperature RF Sputtering of Mixed Ionic and Electronic Conductor Nd2Ni0.8Cu0.2O4+d films
von: Coppola, N., et al.
Veröffentlicht: (2026)
von: Coppola, N., et al.
Veröffentlicht: (2026)
Giant topological Hall effect in epitaxial Ni$_{80}$Fe$_{20}$/La$_{0.65}$Sr$_{0.35}$MnO$_3$ thin film heterostructures
von: Yadav, Kusampal, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Yadav, Kusampal, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Electronic structure and magnetic correlations in trilayer nickelate superconductor La$_4$Ni$_3$O$_{10}$ under pressure
von: Leonov, I. V.
Veröffentlicht: (2024)
von: Leonov, I. V.
Veröffentlicht: (2024)
Modulation of argon pressure as an option to control transmittance and resistivity of ZnO:Al films deposited by DC magnetron sputtering: on the dark yellow films at 10−7 Torr base pressures
von: J.A. García-Valenzuela
Veröffentlicht: (2018)
von: J.A. García-Valenzuela
Veröffentlicht: (2018)
Enhanced spin-to-charge conversion in La$_{0.67}$Sr$_{0.33}$MnO$_3$/NdNiO$_3$ bilayers at the nickelate metal-insulator phase transition
von: Sahoo, Biswajit, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Sahoo, Biswajit, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Interphase design of LiNi0.6Mn0.2Co0.2O2 as positive active material for lithium ion batteries via Al2O3 coatings using magnetron sputtering for improved performance and stability
von: Atif Javed, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Atif Javed, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Single-crystalline CrSb(0001) thin films grown by dc magnetron co-sputtering
von: Bommanaboyena, S. P., et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Bommanaboyena, S. P., et al.
Veröffentlicht: (2025)
Optimization of Ti 2 O 3 thin films by magnetron sputtering and study of their photoelectric performance
von: Wenwei Wang, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Wenwei Wang, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Characterization of diamond-like carbon (DLC) thin films prepared by r.f. magnetron sputtering
von: C. Rincón
Veröffentlicht: (1999)
von: C. Rincón
Veröffentlicht: (1999)
Ferroelectric AlScN thin films with enhanced polarization and low leakage enabled by high-power impulse magnetron sputtering
von: Messi, Federica, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Messi, Federica, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Effect of substrate temperature on the deposition of Al-doped ZnO thin films using high power impulse magnetron sputtering
von: Mickan, Martin, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Mickan, Martin, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Influence of film thickness on structural, optical, and electrical properties of sputtered nickel oxide thin films
von: Sahar Rezaee, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Sahar Rezaee, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Structural, optical, and dielectric properties of Cr-doped ZnO films via DC magnetron sputtering
von: Guo, Men, et al.
Veröffentlicht: (2025)
von: Guo, Men, et al.
Veröffentlicht: (2025)
Versatile r.f. magnetron sputtering doping method to produce aluminum‐doped zinc oxide films
von: Gabriel Henrique Inácio de Oliveira, et al.
Veröffentlicht: (2024)
von: Gabriel Henrique Inácio de Oliveira, et al.
Veröffentlicht: (2024)
Ähnliche Einträge
-
One-step epitaxy of high-mobility La-doped BaSnO3 films by high-pressure magnetron sputtering
von: Zhang, Ruyi, et al.
Veröffentlicht: (2021) -
Epitaxial Sr-doped nickelate perovskite thin films and Ruddlesden-Popper phases grown by magnetron sputtering
von: Kim, Changhwan, et al.
Veröffentlicht: (2024) -
Structural and electrical properties of fiber textured and epitaxial molybdenum thin films prepared by magnetron sputter epitaxy
von: Sundarapandian, Balasubramanian, et al.
Veröffentlicht: (2024) -
Magnetic properties and I‐V characteristics of DC magnetron sputtered [Co (0.2 nm)/Ni (0.4 nm)]10 thin films
von: Subrata Sarkar, et al.
Veröffentlicht: (2024) -
Hydrogenation-induced gigantic resistance decrease of palladium films deposited by high pressure magnetron sputtering
von: Ikeda, Yusuke, et al.
Veröffentlicht: (2026)