Residue-based Label Protection Mechanisms in Vertical Logistic Regression

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Tan, Juntao, Zhang, Lan, Liu, Yang, Li, Anran, Wu, Ye
Formato:	Preprint
Publicado:	2022
Materias:	Machine Learning
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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https://arxiv.org/abs/2205.04166