Crack-free high composition (>35%) thick (>30 nm) barrier AlGaN/AlN/GaN HEMT on sapphire with record low sheet resistance

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
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Hauptverfasser: Mukhopadhyay, Swarnav, Liu, Cheng, Chen, Jiahao, Sanyal, Surjava, Bai, Ruixin, Wang, Guangying, Gupta, Chirag, Pasayat, Shubhra
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2023
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