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In-situ study and modeling of the reaction kinetics during molecular beam epitaxy of GeO2 and its etching by Ge

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Chen, Wenshan, Egbo, Kingsley, Tornatzky, Hans, Ramsteiner, Manfred, Wagner, Markus R., Bierwagen, Oliver
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2023
Schlagworte:	Materials Science
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