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Effect of the atomic structure of complexions on the active disconnection mode during shear-coupled grain boundary motion

Fuente: arXiv

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Hauptverfasser:	Pemma, Swetha, Janisch, Rebecca, Dehm, Gerhard, Brink, Tobias
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2023
Schlagworte:	Materials Science
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