Continual Diffusion with STAMINA: STack-And-Mask INcremental Adapters

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Smith, James Seale, Hsu, Yen-Chang, Kira, Zsolt, Shen, Yilin, Jin, Hongxia
Formato:	Preprint
Publicado:	2023
Materias:	Computer Vision and Pattern Recognition Artificial Intelligence Machine Learning
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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