Operando Plasma-XPS for Process Monitoring: Hydrogenation of Copper Oxide Confined Under h-BN Case Study

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Diulus, J. Trey, Naclerio, Andrew E., Boscoboinik, Anibal, Head, Ashley R., Strelcov, Evgheni, Kidambi, Piran R., Kolmakov, Andrei
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Materials Science
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2401.01434