Plasma potential shaping using end-electrodes in the Large Plasma Device

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Gueroult, R., Tripathi, S. K. P., Gaboriau, F., Look, T. R., Fisch, N. J.
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2024
Schlagworte:
Online-Zugang:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Ähnliche Einträge