Alternating Bias Assisted Annealing of Amorphous Oxide Tunnel Junctions

Fuente: arXiv

Salvato in:

Dettagli Bibliografici
Autori principali:	Pappas, David P., Field, Mark, Kopas, Cameron, Howard, Joel A., Wang, Xiqiao, Lachman, Ella, Zhou, Lin, Oh, Jinsu, Yadavalli, Kameshwar, Sete, Eyob A., Bestwick, Andrew, Kramer, Matthew J., Mutus, Joshua Y.
Natura:	Preprint
Pubblicazione:	2024
Soggetti:	Applied Physics Materials Science Superconductivity Quantum Physics
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Accesso online

https://arxiv.org/abs/2401.07415