Giachero, A., Vissers, M. R., Wheeler, J. D., Malnou, M., Austermann, J. E., Hubmayr, J., . . . Gao, J. (2024). Characterization of NbTiN films with thicknesses below 20 nm for low power kinetic inductance amplifiers.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Giachero, A., M. R. Vissers, J. D. Wheeler, M. Malnou, J. E. Austermann, J. Hubmayr, A. Nucciotti, J. N. Ullom, und J. Gao. Characterization of NbTiN Films with Thicknesses Below 20 Nm for Low Power Kinetic Inductance Amplifiers. 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Giachero, A., et al. Characterization of NbTiN Films with Thicknesses Below 20 Nm for Low Power Kinetic Inductance Amplifiers. 2024.
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