Extreme ultraviolet lithography reaches 5 nm resolution

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Giannopoulos, Iason, Mochi, Iacopo, Vockenhuber, Michaela, Ekinci, Yasin, Kazazis, Dimitrios
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Optics Applied Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2402.18234