Extended defects as a source of phonon confinement in polycrystalline Si and Ge films

Fuente: arXiv
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Arapkina, Larisa V., Chizh, Kirill V., Uvarov, Oleg V., Voronov, Valery V., Dubkov, Vladimir P., Storozhevykh, Mikhail S., Poliakov, Maksim V., Volkova, Lidiya S., Edelbekova, Polina A., Klimenko, Alexey A., Dudin, Alexander A., Yuryev, Vladimir A.
Formato: Preprint
Publicado: 2024
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