Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-beam Lithography: Analysis of Backscattered Electron Distribution

Fuente: arXiv

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Dettagli Bibliografici
Autori principali:	Rebello, A. M., Ruela, L. M., Moreto, G., Klein, N. Y., Martins, E., Oliveira, I. S., Rouxinol, F., Sinnecker, J. P.
Natura:	Preprint
Pubblicazione:	2024
Soggetti:	Quantum Physics Materials Science Superconductivity
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Accesso online

https://arxiv.org/abs/2403.19614