StyleX: A Trainable Metric for X-ray Style Distances

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Eckert, Dominik, Syben, Christopher, Hümmer, Christian, Ritschl, Ludwig, Kappler, Steffen, Stober, Sebastian
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2024
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