Resilient Growth of Highly Crystalline Topological Insulator-Superconductor Heterostructure Enabled by Ex-situ Nitride Film

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Xie, Renjie, Ge, Min, Xiao, Shaozhu, Zhang, Jiahui, Bi, Jiachang, Yuan, Xiaoyu, Yi, Hee Taek, Wang, Baomin, Oh, Seongshik, Cao, Yanwei, Yao, Xiong
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Mesoscale and Nanoscale Physics Superconductivity
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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https://arxiv.org/abs/2406.06112