Hu, T., Shao, X., Bai, M., Jia, X., Dai, S., Sun, X., . . . Ye, T. (2024). Impact of the Top SiO2 Interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure.
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)Hu, Tao, et al. Impact of the Top SiO2 Interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure. 2024.
Citatione MLA (9a ed.)Hu, Tao, et al. Impact of the Top SiO2 Interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure. 2024.
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