Epitaxial Growth of Rutile GeO$_2$ via MOCVD

Fuente: arXiv

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Rahaman, Imteaz, Duersch, Bobby, Ellis, Hunter D., Scarpulla, Michael A., Fu, Kai
Format:	Preprint
Publié:	2024
Sujets:	Applied Physics Materials Science
Accès en ligne:	Acceder al recurso
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https://arxiv.org/abs/2407.02682