Role of Domain Walls on Imprint and Fatigue in HfO2-Based Ferroelectrics

Fuente: arXiv
Salvato in:
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Autori principali: Xie, Muting, Yu, Hongyu, Zhang, Binhua, Xu, Changsong, Xiang, Hongjun
Natura: Preprint
Pubblicazione: 2024
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