Intermittent Semi-Working Mask: A New Masking Paradigm for LLMs

Fuente: arXiv
Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Hu, HaoYuan, Lu, Mingcong, Luo, Di, Wu, XinYa, Zhu, Jiangcai, Yin, Taoye, Li, Zheng, Wang, Hao, Zhang, Shusheng, Zhang, KeZun, Shao, KaiLai, Chen, Chao, Wang, Feng
Formato: Preprint
Publicado: 2024
Materias:
Acceso en línea:
Etiquetas: Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!