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The role of sputtered atom and ion energy distribution in films deposited by Physical Vapor Deposition: A molecular dynamics approach

Fuente: arXiv

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Hauptverfasser:	Atmane, Soumya, Alexandre, Maroussiak, Caillard, Amaël, Thomann, Anne-Lise, Kateb, Movaffaq, Gudmundsson, Jón Tómas, Brault, Pascal
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2024
Schlagworte:	Computational Physics Plasma Physics
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