Look Through Masks: Towards Masked Face Recognition with De-Occlusion Distillation

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Li, Chenyu, Ge, Shiming, Zhang, Daichi, Li, Jia
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2024
Schlagworte:	Computer Vision and Pattern Recognition Artificial Intelligence Machine Learning
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https://arxiv.org/abs/2409.12385