Data-driven surrogate model for etch rate profiles using sensor data from a reactive ion etcher

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
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Hauptverfasser: Pamarty, Abhijit Pranav, Neuweiler, Robert, Do, Le Quyen, Johnson, Keaton, Sanchez, James J., Koli, Dinesh
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2024
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