Electron dynamics and SiO2 etching profile evolution in capacitive Ar/CHF3 discharges driven by sawtooth-tailored voltage waveforms

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Dong, Wan, Song, Liu-Qin, Zhang, Yi-Fan, Wang, Li, Song, Yuan-Hong, Schulze, Julian
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Plasma Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2411.07839