Dissociative photoionization of EUV lithography photoresist models

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Gentile, Marziogiuseppe, Gerlach, Marius, Richter, Robert, van Setten, Michiel J., Petersen, John S., van der Heide, Paul, Holzmeier, Fabian
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2024
Schlagworte:	Materials Science Chemical Physics
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https://arxiv.org/abs/2411.10177