Dissociative photoionization of EUV lithography photoresist models

Fuente: arXiv
Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autori principali: Gentile, Marziogiuseppe, Gerlach, Marius, Richter, Robert, van Setten, Michiel J., Petersen, John S., van der Heide, Paul, Holzmeier, Fabian
Natura: Preprint
Pubblicazione: 2024
Soggetti:
Accesso online:
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!