Buchumschlag

Background-Aware Defect Generation for Robust Industrial Anomaly Detection

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Cho, Youngjae, Kim, Gwangyeol, Safarov, Sirojbek, Bang, Seongdeok, Park, Jaewoo
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2024
Schlagworte:	Computer Vision and Pattern Recognition Artificial Intelligence
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