Monolayer Capping Provides Close to Optimal Resistance to Laser Dewetting of Au Films

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Murray, Christopher P., Mamyraimov, Daniyar, Ali, Mugahid, Downing, Clive, Povey, Ian M., McCloskey, David, O'Regan, David D., Donegan, John F.
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Mesoscale and Nanoscale Physics Materials Science Chemical Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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Internet

https://arxiv.org/abs/2412.14101