Monolayer Capping Provides Close to Optimal Resistance to Laser Dewetting of Au Films

Fuente: arXiv

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Autori principali:	Murray, Christopher P., Mamyraimov, Daniyar, Ali, Mugahid, Downing, Clive, Povey, Ian M., McCloskey, David, O'Regan, David D., Donegan, John F.
Natura:	Preprint
Pubblicazione:	2024
Soggetti:	Mesoscale and Nanoscale Physics Materials Science Chemical Physics
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