Atomistic modeling of the structure and diffusion processes at Al(110)/Si(001) interphase boundaries obtained by vapor deposition

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Li, Yang, Mishin, Yuri
Formato:	Preprint
Publicado:	2024
Materias:	Materials Science Mesoscale and Nanoscale Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2412.20994