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Stacking-dependent Electronic and Topological Properties in van der Waals Antiferromagnet MnBi$_2$Te$_4$ Films

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Li, Jiaheng, Wu, Quansheng, Weng, Hongming
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Materials Science
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