Benchmarking analytical electron ptychography methods for the low-dose imaging of beam-sensitive materials

Fuente: arXiv
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Robert, Hoelen L. Lalandec, Leidl, Max Leo, Müller-Caspary, Knut, Verbeeck, Jo
Formato: Preprint
Publicado: 2025
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