Defects in the $β$-Ga$_2$O$_3$($\bar201$)/HfO$_2$ MOS system and the effect of thermal treatments

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Agrawal, Khushabu. S., LaTorraca, Paolo, Valentijn, Jonas, Hawkins, Roberta, Gruszecki, Adam A., Roy, Joy, Lebedev, Vasily, Jones, Lewys, Wallace, Robert M., Young, Chadwin D., Hurley, Paul K., Cherkaoui, Karim
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Materials Science Applied Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2502.17112