Optimizing Metal-Organic Chemical Vapor Deposition for Ultrawide Band-Gap MgSiN2 Thin Films

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Hu, Chenxi, Mukit, Abdul, Vangipuram, Vijay Gopal Thirupakuzi, Chae, Christopher, Hwang, Jinwoo, Kash, Kathleen, Zhao, Hongping
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Materials Science Applied Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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https://arxiv.org/abs/2504.00875