Increasing the density limit with ECRH-assisted Ohmic start-up on EAST

Fuente: arXiv

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Liu, Jiaxing, Zhu, Ping, Escande, Dominique Franck, Liu, Wenbin, Xue, Shiwei, Lin, Xin, Tang, Panjun, Wang, Liang, Yan, Ning, Yang, Jinju, Duan, Yanmin, Jia, Kai, Wu, Zhenwei, Cheng, Yunxin, Zhang, Ling, Qian, Jinping, Ding, Rui, Zhou, Ruijie, team, the EAST
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Plasma Physics
Online-Zugang:	Acceder al recurso
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Online

https://arxiv.org/abs/2505.02710