Unraveling the Reaction Mechanisms in a Chemically Amplified EUV Photoresist from a Combined Theoretical and Experimental Approach

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Galleni, Laura, Singh, Dhirendra P., Conard, Thierry, Pourtois, Geoffrey, van der Heide, Paul, Petersen, John, Dorney, Kevin M., van Setten, Michiel J.
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Materials Science
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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https://arxiv.org/abs/2505.07346