Fundamental Understanding of Exposure and Process Chemistry for Enhanced Lithography and Stability of Metal Oxide Resists

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Dorney, Kevin M., Pollentier, Ivan, Holzmeier, Fabian, Fallica, Roberto, Chen, Ying-Lin, Piatti, Lorenzo, Singh, Dhirendra, Galleni, Laura, van Setten, Michiel J., Suh, Hyo Seon, De Simone, Danilo, Pourtois, Geoffrey, van der Heide, Paul, Petersen, John
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Materials Science
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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Internet

https://arxiv.org/abs/2505.07639