Extreme-Band-Gap Semiconductors with Shallow Dopants and Mobile Carriers

Fuente: arXiv

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Dettagli Bibliografici
Autori principali:	Chae, Sieun, Sanders, Nocona, Mengle, Kelsey A., Wang, Amanda, Zhang, Xiao, Bartolome, Jon Lafuente, Luo, Kaifa, Huang, Yen-Chun, Giustino, Feliciano, Heron, John T., Kioupakis, Emmanouil
Natura:	Preprint
Pubblicazione:	2025
Soggetti:	Materials Science
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Accesso online

https://arxiv.org/abs/2506.07284