Ultra-low-resistivity nitrogen-doped p-type Cu2O thin films fabricated by reactive HiPIMS

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Rezek, Jiří, Koloros, Jan, Houška, Jiří, Čerstvý, Radomír, Haviar, Stanislav, Damte, Jemal Yimer, Kolenatý, David, Baroch, Pavel
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Materials Science Applied Physics
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https://arxiv.org/abs/2506.15275