From Lab to Factory: Pitfalls and Guidelines for Self-/Unsupervised Defect Detection on Low-Quality Industrial Images

Fuente: arXiv

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Hönel, Sebastian, Nordqvist, Jonas
Format:	Preprint
Publié:	2025
Sujets:	Machine Learning Computer Vision and Pattern Recognition Applications 62-06 G.3; I.4; I.5
Accès en ligne:	Acceder al recurso
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https://arxiv.org/abs/2506.16890