Atomic layer deposition on particulate materials from 1988 through 2023: A quantitative review of technologies, materials and applications

Fuente: arXiv
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Auteurs principaux: Piechulla, Peter M., Chen, Mingliang, Goulas, Aristeidis, Puurunen, Riikka L., van Ommen, J. Ruud
Format: Preprint
Publié: 2025
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