LPCVD based Plasma Damage Free in situ etching of $β$-Ga$_2$O$_3$ using Solid Source Gallium
Fuente:
arXiv
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , |
|---|---|
| Format: | Preprint |
| Veröffentlicht: |
2025
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| Schlagworte: | |
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