Implantation studies of low-energy positive muons in niobium thin films

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	McFadden, Ryan M. L., Suter, Andreas, Ruf, Leon, Di Bernardo, Angelo, Müller, Arnold M., Prokscha, Thomas, Salman, Zaher, Junginger, Tobias
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Materials Science Mesoscale and Nanoscale Physics Applied Physics
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https://arxiv.org/abs/2507.03785