Quantifying Resolution Limits in Pedestal Profile Measurements with Gaussian Process Regression

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Cao, Norman M., Hatch, David R., Michoski, Craig, Oliver, Todd A., Eldon, David, Nelson, Andrew Oakleigh, Waller, Matthew
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Plasma Physics
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https://arxiv.org/abs/2507.05067