Generate Aligned Anomaly: Region-Guided Few-Shot Anomaly Image-Mask Pair Synthesis for Industrial Inspection

Fuente: arXiv

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Lu, Yilin, Lin, Jianghang, Xie, Linhuang, Zhao, Kai, Qu, Yansong, Zhang, Shengchuan, Cao, Liujuan, Ji, Rongrong
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Computer Vision and Pattern Recognition
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https://arxiv.org/abs/2507.09619