A Practical Finite Element Approach for Simulating Dynamic Crack Growth in Cu/Ultra Low-k Interconnect Structures

Fuente: arXiv

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Détails bibliographiques
Auteurs principaux:	Xie, Yuxi, Wu, Ethan J., Xu, Lu, Perez, Jimmy, Li, Shaofan
Format:	Preprint
Publié:	2025
Sujets:	Computational Engineering, Finance, and Science Systems and Control
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https://arxiv.org/abs/2508.00193