Enhanced Performance of FeFET Gate Stack via Heterogeneously co-doped Ferroelectric HfO$_2$ Films

Fuente: arXiv
Salvato in:
Dettagli Bibliografici
Autori principali: Yang, Shouzhuo, Lehninger, David, Reinig, Peter, Schöne, Fred, Hoffmann, Raik, Seidel, Konrad, Lederer, Maximilian, Gerlach, Gerald
Natura: Preprint
Pubblicazione: 2025
Soggetti:
Accesso online:
Tags: Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!