Machine Learning for Polymer Chemical Resistance to Organic Solvents

Fuente: arXiv
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Autori principali: Kunieda, Shogo, Yambe, Mitsuru, Murashima, Hiromori, Nakamura, Takeru, Shintani, Toshiaki, Kamijima, Hitoshi, Hayashi, Yoshihiro, Hanawa, Yosuke, Yoshida, Ryo
Natura: Preprint
Pubblicazione: 2025
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